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更新时间：2026-01-29
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| 参数 | 典型值 | 说明 |
|---|---|---|
| 基础材质 | Y-TZP（ZrO₂ 94.75±0.60wt%，Y₂O₃ 4.90±0.50wt%） | 四方晶稳定结构，兼顾强度与韧性 |
| 密度 | 6.0–6.06g/cm³ | 堆积密度约 3.70g/cm³，研磨动能充足 |
| 硬度 | 1200–1300HV10 | 莫氏 9 级，磨耗比普通氧化锆珠低 40% |
| 断裂韧性 | 6.0MPa·√m | 约为氧化铝 2 倍，抗冲击不易碎裂 |
| 弹性模量 | 210GPa | 刚性强，研磨受力稳定，效率高 |
| 尺寸范围 | 0.03–5mm | 覆盖纳米级精磨至粗颗粒预磨 |
| 尺寸公差 | ±0.001–±0.03mm | 依型号分级，适配砂磨机 / 珠磨机高精度要求 |
| 圆度 | ≤0.5μm（ C0 级≤0.13μm） | 表面 Ra≤0.05μm，降低设备磨损与物料污染 |
| 化学稳定性 | 耐 pH 2–14 酸碱，耐受 800℃高温 | 适配化工、食品、医药等腐蚀 / 高温工况 |
| 杂质控制 | Al₂O₃≤0.3wt%，Fe₂O₃/SiO₂≤0.01wt% | 满足 ppm 级低污染需求 |
超低磨耗与低污染：特殊烧结工艺 + 晶体优化，磨耗率比钢珠低 40%、比硅酸锆珠低 60% 以上；杂质溶出 < 0.01ppm，适配锂电、MLCC 等敏感物料。
高韧性抗破裂：6.0MPa・√m 断裂韧性，在高转速砂磨机中不易碎裂，减少设备堵塞与停机换珠频率。
高精度尺寸控制：全尺寸链圆度与公差严格，表面无突起 / 划痕，研磨效率与产品均一性更优。
化学与热稳定性：耐强酸强碱、有机溶剂与高温，适配多行业恶劣研磨工况，降低介质失效风险。
| 编码段 | 含义 | 示例说明 |
|---|---|---|
| AGB-K | 产品系列 | 东丽 TORAYCERAM™研磨用氧化锆球基础型号 |
| 1.0 | 直径 | 1.0mm，适配中细粒度研磨 |
| C01 | 工艺 / 批次代码 | 生产工艺与质量批次标识 |
| H92 | 性能等级 | 硬度、韧性等核心性能控制等级 |
| 行业 | 应用环节 | 推荐粒径 | 核心价值 |
|---|---|---|---|
| 电子材料 | MLCC/LTCC 粉体、压电陶瓷湿法研磨 | 0.05–0.3mm | 纳米级分散，杂质控制≤0.01wt% |
| 锂电池 | 正负极材料、固态电解质分散 | 0.1–1.0mm | 分段研磨达 D50 50–500nm，提升倍率与循环性能 |
| 油墨 / 涂料 | 高固含颜料、纳米色浆超细分散 | 0.03–0.6mm | 降低粘度，提升色彩饱和度与稳定性 |
| 医药 / 食品 | 药用辅料、保健品超细粉碎 | 0.1–0.5mm | 低污染，符合 GMP 对金属杂质的严格要求 |
| 半导体 | CMP 浆料二次分散 | 0.05–0.2mm | 提升抛光均匀性，减少晶圆缺陷 |
| 化工 | 颜料、树脂、纳米填料分散 | 0.3–3.0mm | 适配高粘度体系，提高分散效率与稳定性 |
粒径匹配原则：遵循 “精磨 1000:1、粗磨 10:1" 经验值，如目标 D50=100nm 选 0.1mm 珠，初始粒径 100μm 粗磨选 1.0mm 珠。
设备适配：卧式砂磨机常用 0.1–1.0mm，篮式研磨机常用 1.0–3.0mm，珠磨机依腔体间隙选≤1/3 间隙粒径。
填充率控制：卧式砂磨机填充率 65%–80%，立式 / 篮式 60%–70%，平衡研磨效率与设备负荷。
更换周期：磨耗量达 5%–8% 或粒径分布超差时更换，敏感物料建议缩短周期。
| 对比维度 | 东丽氧化锆球 | 普通氧化锆球 | 氧化铝球 |
|---|---|---|---|
| 磨耗率 | 极低（基准 1） | 高 1.5–2 倍 | 高 3–5 倍 |
| 断裂韧性 | 6.0MPa·√m | 4.0–5.0MPa·√m | 3.0–4.0MPa·√m |
| 尺寸精度 | ±0.001–±0.03mm | ±0.05–±0.10mm | ±0.10–±0.20mm |
| 杂质控制 | ppm 级 | ppm–ppb 级 | ppb 级（易引入 Al 杂质） |
| 价格 | 较高 | 中 | 低 |
| 适用场景 | 纳米级、低污染 | 普通精细研磨 | 粗磨、对杂质不敏感场景 |
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