更新时间:2026-01-06
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| 参数项 | 数值 | 备注 |
|---|---|---|
| 抽气速度 | 3300 L/min(120 CFM) | 标准工况下的稳定抽速 |
| 极限压力 | 3.0 Pa(无气镇);5.0 Pa(带气镇) | 满足洁净真空基础需求 |
| 进气 / 排气口径 | NW40(KF40) | 适配主流真空管道 |
| 额定功率 | 1.5 kW | 极限压力下功耗低至 1.1 kW |
| 电源容量 | 3 kVA | 适配三相 200‑240 VAC,可选单相 |
| 运行噪音 | 56 dB(A) | 低噪,适合实验室 / 洁净车间 |
| 冷却方式 | 空冷 | 无需外接冷却水,安装灵活 |
| 重量 | 约 55 kg | 紧凑易搬运,节省安装空间 |
| 接口配置 | 带气镇接口、垂直排气、外置消音器 + 止回阀 | 标准配置,可选配件丰富 |
无油洁净:多级罗茨结构无油污染,适配半导体晶圆、光伏电池片等对洁净度要求高的制程。
空冷免维护:无需水冷系统,减少管路与维护成本,适合无水或空间受限场景。
低噪节能:56 dB (A) 运行噪音,极限压力下功耗低至 1.1 kW,长期运行成本优势显著。
接口兼容:NW40 接口适配多数真空设备,气镇功能可处理少量水汽,提升工况适配性。
稳定可靠:非接触式转子设计,磨损小、寿命长,适合连续运行的产线或实验环境。
半导体:晶圆清洗、光刻胶涂覆、PECVD 等前道制程的真空环境维持。
光伏:电池片沉积、等离子体刻蚀等洁净真空环节。
分析仪器:质谱仪、电子显微镜、真空干燥箱的真空源供给。
材料研发:真空镀膜、溅射、离子注入等实验设备的配套真空系统。
工业制造:电子元器件封装、精密焊接等低污染真空场景。
配套建议
真空管道:采用 NW40(KF40)法兰,配金属密封圈确保密封性能。
电源配置:三相 200‑240 VAC,预留 3 kVA 供电容量,避免电压波动影响运行。
维护周期:建议每 6 个月检查滤芯、消音器,每年进行一次全面保养与性能校准。
选型对比
| 型号 | 抽速(L/min)| 极限压力(Pa)| 功率(kW)| 适用场景 |
| ---- | ---- | ---- | ---- | ---- |
|EV‑SA20|1670|3.0/5.0|1.5 | 小型分析仪器、实验室小腔体 |
|EV‑SA30|3300|3.0/5.0|1.5 | 中型产线、光伏 / 半导体中小腔体 |
|EV‑SA50|5000|3.0/5.0|1.5 | 大型腔体、高抽速需求的制程线 |
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